En Reuters-rapport säger att en kinesisk prototyp av en extreme ultraviolet-lithografimaskin byggd av tidigare ASML-ingenjörer nu testas i Shenzhen, efter att Reuters avslöjat att projektet använde tidigare ASML-anställda som agerade under falska namn och återanvände delar.Prototypen sägs kunna generera EUV-ljus men tillverkar ännu inga chip; Kina siktar på inhemsk EUV-produktion till 2028 även om vissa experter bedömer 2030 som mer sannolikt, samtidigt som en kinesisk chip-startup aktiekurs steg 693 procent och Xi Jinping driver på för halvledar-självförsörjning.