Einem Reuters-Bericht zufolge wird ein chinesischer Prototyp einer Extreme-Ultraviolet-Lithographie-Maschine, die von ehemaligen ASML-Ingenieuren gebaut wurde, derzeit in Shenzhen getestet, nachdem Reuters berichtet hatte, dass das Projekt frühere ASML-Mitarbeiter unter falschen Namen und mit aufgearbeiteten Teilen einsetzte.Der Prototyp soll EUV-Licht erzeugen können, fertigt jedoch noch keine Chips; China peilt eine heimische EUV-Produktion bis 2028 an, obwohl einige Experten 2030 für wahrscheinlicher halten, während die Aktien eines chinesischen Chip-Startups um 693 Prozent stiegen und Xi Jinping die Halbleiterautonomie vorantreibt.