Un informe de Reuters dice que un prototipo chino de máquina de litografía de ultravioleta extrema construido por exingenieros de ASML se está probando en Shenzhen después de que Reuters revelara que el proyecto implicó a ex empleados de ASML que usaron nombres falsos y piezas recuperadas.El prototipo podría generar luz EUV pero aún no fabrica chips; China aspira a producir con máquinas EUV propias para 2028 aunque algunos expertos sitúan la fecha en 2030, mientras las acciones de una startup china de chips subieron un 693 por ciento y Xi Jinping impulsa la autosuficiencia en semiconductores.